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我們經常看到報道上說芯片制程達到了14nm、7nm、5nm，最近中芯國際在沒有ASML的EUV光刻機的情況下，實現了7nm的制程，有很多人對此感到很興奮。同時也有人問，半導體的多少納米制程，到底是指晶體管間距多少納米，還是晶體管的大小是多少納米？要回答這個問題，我們得從一個晶體管單位的組成說起。

晶體管工作的時候，電流從源極（Source）流入漏極（Drain），中間綠色的那堵墻叫作柵極（Gate），相當于一個閘門，它負責控制源極和漏極之間電流的通斷。而電流通過柵極（Gate）時會損耗，柵極的寬度就決定了損耗的大小。表現在芯片上，就是芯片的發熱和功耗，柵極越窄，芯片的功耗就越小。

柵極的最小寬度（柵長，就是上面右圖Gate的寬度）就是多少nm工藝中的數值了。在實際芯片制程工藝中，越小的制程工藝，不但對制造工藝和設備有更高的要求，其芯片性能也會受到極大的影響。當寬度逼近20nm的時候，柵極對電流的控制能力就會急劇下降，從而發生“漏電”的問題。

漏電會導致芯片的功耗上升，更會使電路發生錯誤，信號模糊。為了解決信號模糊的問題，芯片又不得不提高核心電壓，使得功耗更大。這對于更小工藝制程來說，是一個矛盾。

為了解決這個問題，臺積電和三星等芯片制造企業，提出了FinFET工藝。這種工藝，簡單來說，就是將芯片內部平面的結構，變成了立體的，把柵極形狀改制，增大接觸面積，減少柵極寬度的同時降低漏電率，而晶體管空間利用率大大增加。

FinFET（鰭式場效應晶體管），是一種新型的晶體管，這種被稱為CMOS的工藝優勢很明顯，很快就被大規模應用于手機芯片上。

然而，在5nm以下的制程芯片中，影響芯片性能的除了漏電問題之外，更大的是量子效應的影響，這時芯片的特性更難控制，科學家們要尋求新工藝才能使芯片更進一步。

業內正在發展的一種新技術叫做環繞式柵極技術（Gate-All-Around），簡稱為GAA橫向晶體管技術（GAAFET）。這項技術的特點是實現了柵極對溝道的四面包裹，源極和漏極不再和基底接觸，而是利用線狀（可以理解為棍狀）或者平板狀、片狀等多個源極和漏極橫向垂直于柵極分布后，實現MOSFET的基本結構和功能。
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