半導體光刻光源制造商Gigaphoton株式會社宣布，2020年將增加全新產品，其中包括采用新技術的最新半導體制造光刻光源ArF浸沒式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”這2種機型。

配備加快技術轉移的新技術

半導體光刻光源制造商Gigaphoton株式會社（總部：栃木縣小山市、董事長兼總經理：浦中克己）宣布，2020年將增加全新產品，其中包括采用新技術的最新半導體制造光刻光源ArF浸沒式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”這2種機型。

隨著近年來IoT的普及以及AI的實際運用，半導體用途不斷擴大，從而要求半導體芯片需要進一步加快通信速度，實現更大數量的數據處理。尤其在2020年，5G（第5代移動通信）開始面向普通人群提供服務，因此需要10nm以下節點的小型、高速、低功耗邏輯IC以及用于存儲爆炸性增長數據的大容量存儲芯片。

新型ArF浸沒式激光器“GT66A”配備了新開發的光學模塊，成功降低了空間相干，并改善了曝光面的光束均勻性。新型KrF用激光器“G60K”進行了時隔約15年的全型號變更，通過引進新型電源單元，實現了以往1.5倍的輸出。Gigaphoton通過這些新技術為芯片制造商提供支持。

Gigaphoton董事長兼總經理浦中克己表示：“隨著引進IoT的產業設備及家電的普及，配合AI與5G，同時推動工廠、醫療、汽車、社會基礎設施等多個領域的實時化以及智能化。我們將通過配備新技術的新產品線，為新一代產業界的發展做出貢獻。”