1月8日，日本昭和電工株式會社官網發布公告，為了強化電子材料用高純度氣體事業，決定在上海生產基地——上海昭和電子化學材料有限公司（以下簡稱“上海昭和”）的旁邊取得第二工廠建設用地，建設高純度N2O（一氧化二氮）和高純度C4F8（八氟環丁烷）的生產設施，以及高壓氣體危險品倉庫。

據介紹，高純度N2O主要是半導體及顯示屏制造時的氧化膜的氧來源的特種氣體，高純度C4F8主要是這種氧化膜的微細加工（蝕刻）時的特種氣體。昭和電工表示，由于第5代移動通信（5G）等信息通信領域的發展，以及中國政府的產業培育政策，預計今后中國的半導體及顯示屏市場（有機EL電視機等）將會擴大。

昭和電工指出，目前公司在川崎事業所和韓國基地生產高純度N2O，并在川崎事業所和上海基地（上海昭和第一工廠）生產高純度C4F8。為了提高對日益增長市場的穩定供應能力，昭和電工正致力于進一步推進“地產地銷”的政策。同時，在中國逐年加強對化學品的監管的形勢下，在上海建設并完善本公司擁有的高壓氣體危險品倉庫，對增強供應鏈、提高競爭力將大有幫助。

根據昭和電工公布的資料，上海昭和第二工廠面積約10000平米，計劃建設高純度N2O年生產能力1000噸、高純度C4F8 年生產能力 600噸、高壓氣體危險品倉庫，第二工廠計劃于2021年下半年投產。

此外，由于預計中國***的半導體市場同樣也會擴大，昭和電工子公司“***昭和化學品生產股份有限公司”也將新建年產150噸高純度C4F8的生產設施（計劃2020年春投產）。本次昭和電工在上海和***的投資總額約為30億日元。

資料顯示，昭和電工是一家綜合性集團企業，產品涉及到石油、化學、無機、鋁金屬、電子信息等眾多領域。2019年12月，昭和電工宣布成功收購日立化成，后者是電子電氣材料領域的主要企業之一，在半導體材料方面具有領先優勢。
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