（文章來源：數碼密探）

據知名調研機構Canalys公布的2019第三季度全球智能手機出貨量數據顯示，華為手機成功趕超蘋果，以19%的市場份額位居全球第二。而小米、OPPO分別以9.2%、9.1%的市場份額排名第四、第五，可見在全球智能手機市場，國產手機陣營基本實現了全覆蓋。

不過，智能手機的核心組件——芯片卻始終是我國最大的短板。盡管華為等企業已經突破了芯片設計的瓶頸，但在芯片制造方面卻依然沒有大的突破。而在芯片制造過程中，光刻機又是重中之重。

若是將半導體芯片生產比喻為制造業的皇冠，那光刻機就是皇冠上的明珠。目前，光刻機的主要水平為14nm，最先進的為7nm工藝，因設計太過復雜，全球僅有荷蘭ASML公司可以生產。而其他國家的光刻機有9nm工藝，但這一技術掌握在日本和德國。芯片技術的短缺也意味著我國科技企業不僅沒有議價權，還將面臨卡脖子的境遇，因此，掌握光刻機技術迫在眉睫。

時至今日，中芯國際、華虹集團均已實現量產28mm和90mm工藝的水平。雖然有不小的突破，但是與7nm和9nm工藝制程仍有很大的差距。而近日，中國芯片又傳來了一個好消息，國產光刻機打破西方壟斷，實現彎道超車，攻克了9nm技術難關！

據媒體報道，我國武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊成功研制出9nm工藝光刻機。值得注意的是，此次研發成功的光刻機所采用的技術與西方技術不同，是用二束激光在自研光刻機上突破了光束衍射極限的限制，刻出了最小9nm線寬的線段。這一技術是我國獨有的技術，這也意味著我國將具有自主產權。雖然目前9nm工藝光刻機技術仍然在試驗階段，與7nm工藝之間仍然具有一定的差距，但這對我國的芯片進程而言的確是一個好消息。

同時，國產光刻機技術的突破在我國芯片發展史上有著重要的意義。一直以來，我國科技企業都需要長期依靠海外進口，而9nm工藝技術的突破卻代表著在未來我國科技企業可以減少對海外芯片的依賴，進而提高我國在電子產業的地位。

（責任編輯：fqj）