加利福尼亞州圣塔克拉拉 - ***聯合微電子公司今天宣布已經生產出功能齊全的產品2兆位SRAM器件采用0.13微米邏輯工藝技術,具有銅互連功能。
在聯華電子硅谷年度技術論壇期間,芯片代工廠稱其在貼出后于5月2日驗證了SRAM芯片的產量。今年第一季度的設計。該公司還表示0.13微米工藝實際上在晶體管和所有布線層上的銅互連上都有0.10微米的柵極長度。
“這個里程碑將UMC放在地圖上作為引入先進技術的領跑者邏輯生產技術,“***新竹純粹鑄造公司的首席技術官Fu Tai Liou宣稱。 “在大多數其他半導體行業領導者的路線圖之前,我們生產的功能齊全的SRAM芯片具有天然良好的裸片產量,差不多整整一年。”
因此,聯華電子聲稱它在比賽中處于領先地位在鑄造公司中提供所有銅互連技術和0.10微米柵極長度的技術。然而,聯華電子表示尚未將0.13微米工藝技術用于試生產。該公司表示,這將在今年年底之前發生。
但根據聯華電子的說法,新的邏輯工藝已經生產出世界上最小的由六個晶體管制成的SRAM存儲單元。該公司表示,存儲器單元為2.28微米 2 。
聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。
舉報投訴
-
sram
+關注
關注
6文章
820瀏覽量
117472 -
PCB打樣
+關注
關注
17文章
2981瀏覽量
23595 -
華強PCB
+關注
關注
8文章
1831瀏覽量
29263 -
華強pcb線路板打樣
+關注
關注
5文章
14629瀏覽量
44641
發布評論請先 登錄
相關推薦
熱點推薦
Allegro與UMC達成商業合作 簽訂長期晶圓制造代工協議
Allegro和全球領先的半導體代工廠商聯華電子(NYSE:UMC; TWSE:2303)(簡稱UMC)宣布簽署長期協議,UMC將繼續作為Allegro的主要
特征工藝尺寸對CMOS SRAM抗單粒子翻轉性能的影響
【作者】:張科營;郭紅霞;羅尹虹;何寶平;姚志斌;張鳳祁;王園明;【來源】:《原子能科學技術》2010年02期【摘要】:采用TCAD工藝模擬工具按照等比例縮小規則構建了從亞微米到超深亞
發表于 04-22 11:50
請問低調的UMC究竟在忙些什么?
的快速發展及巨大市場容量,給了UMC賺錢的機會,另一方面,亞太地區對晶圓代工廠的特殊工藝需求也是全球最多的,這給了重點發展特色工藝的UMC更
發表于 06-11 16:27
IBM將提供CMOS圖像傳感器代工服務
圖像傳感器制造IP的授權??逻_推出了新的300和500萬像素的CMOS圖像傳感器,將由IBM在美國佛蒙特州的半導體工廠制造。 IBM的代工服務基于它的0.18微米銅CMOS制造工藝
發表于 11-20 15:43
中芯國際90納米低功耗集成電路生產工藝技術
立足自主研發和技術創新,企業才有生命力。2005 年,中芯國際在成功開發0.25 微米、0.18 微米、0.13微米集成電路
發表于 12-14 11:39
?35次下載
宏力半導體采用ARM物理IP 擴展其微米工藝
上海宏力半導體(Grace Semiconductor)和ARM公司目前共同宣布授權協議,ARM公司將開發一套Artisan物理IP支持宏力公司0.18微米和0.13
發表于 03-13 13:02
?843次閱讀
華虹NEC推出業界領先的0.13微米嵌入式EEPROM解決方
華虹NEC推出業界領先的0.13微米嵌入式EEPROM解決方案
世界領先的純晶圓代工廠之一,上海華虹NEC電子有限公司(以下簡稱“華虹NEC”)近日宣布,公司基于0.13微
發表于 01-11 09:42
?1355次閱讀
華虹NEC發布0.13微米嵌入式EEPROM解決方案
華虹NEC發布0.13微米嵌入式EEPROM解決方案
上海華虹NEC電子有限公司(以下簡稱“華虹NEC”)不久前宣布,公司基于0.13微米嵌入式閃存(eFlash)
發表于 01-12 08:43
?1989次閱讀
賽普拉斯采用UMC工藝生產的40nm eCT Flash MCU現已出貨
全球領先的嵌入式解決方案供應商賽普拉斯半導體公司和全球領先的半導體代工廠聯華電子公司(以下簡稱“UMC”)于今日宣布,賽普拉斯由UMC代工的專有40nm嵌入式 電荷捕獲 (eCT?)
發表于 12-29 15:46
?2745次閱讀
英特爾與日本印刷公司合作開發0.13微米光掩模
東京 - 英特爾公司和大日本印刷公司今天宣布共同開發先進的光掩模技術微處理器公司采用0.13微米工藝技術。
zpwsmileASML推出248-nm掃描儀,用于0.13微米批量生產
ASML推出用于0.13微米批量生產的248納米掃描儀 慕尼黑 - 相信193納米光刻仍然至少可以在芯片生產中使用一年ASM Lithography今天推出了一款新的KrF 248-n
zpwsmileKLA-Tencor光刻工藝控制解決方案可將產量優化至0.13微米
KLA-Tencor光刻工藝控制解決方案將產量優化至0.13微米 SAN JOSE - KLA-Tencor公司推出了一款工藝模塊控制(PMC)解決方案芯片制造商實施和控制
鋁繞組鑄造技術可取代電機銅繞組
據外媒報道,德國弗勞恩霍夫生產技術和應用材料研究所(Fraunhofer IFAM)的研究人員開發了一種鑄造技術,可用于生產具有更高溝槽填充系數的輕型鋁繞組,以取代電機中的
UMC采用0.13微米工藝生產的銅SRAM代工鑄造技術
評論