慕尼黑 - 相信193納米光刻仍然至少可以在芯片生產中使用一年ASM Lithography今天推出了一款新的KrF 248-nm步進掃描工具，該工具經過優化，可以制造0.13微米設計規則的IC。

新型PAS 5500/750E掃描儀是對ASML的增強功能。深紫外700平臺，去年推出用于0.15微米芯片生產。根據AMSL的說法，750E掃描儀使用了Carl Zeiss Jena GmbH最新的DUV鏡頭 - Starlith 750--其數值孔徑為0.7，目前可用的像差最小。

掃描儀也是荷蘭平版印刷公司今天在慕尼黑舉行的Semicon Europa貿易展上展示了該系統，該產品具有業內最小的單機操作小于30納米的覆蓋能力和45納米的匹配機器覆蓋。

AMSL認為半導體制造商現在已經達到了2000年下半年和明年生產新IC需要0.13微米特征尺寸的程度。然而，問題是新的193納米工藝，光罩和光刻膠不可能在那段時間內完全準備好批量生產。

新的KrF 248-nm掃描儀可以使用成熟的光罩和光刻膠技術，過去四年一直服務于現有的DUV光刻技術。為了將曝光分辨率降至130納米，晶圓廠可以使用相移掩模和光學鄰近校正（OPC）技術。

ASML推出其首款ArF 130-nm掃描儀，即PAS 5500/950，去年用于工藝開發和早期試生產，但該公司預計客戶不會在明年某個時候開始將這些系統轉移到批量生產線。 ASML還計劃在2001年中期推出一款新的批量生產130納米掃描儀，稱為PAS 5500/1100，銷售執行副總裁Dave Chavoustie表示。他預測，130納米掃描儀的批量生產預計將于2002年開始。

雖然193納米光刻膠和支持技術仍在繼續開發中，但新型KrF 248掃描儀的目標是低于0.15微米的分辨率要求。 5500/750E包括一個Quasar模塊，可實現多極照明。它還具有雙重曝光能力。

ASML表示，在50 mJ/cm ² 和46個曝光場的生產條件下，新掃描儀每小時可生產120個8英寸晶圓。

掃描儀的發貨計劃于今年第二季度開始。 ASML一直在引用該系統的基本價格約為860萬美元。