新諾科技的CTO梅文輝博士是全球首位將數字微鏡陣列（DMD）技術應用于光刻領域的科學家，被光刻行業譽為“The Father of Maskless”（無掩模光刻之父）。在1998~2006年間，梅博士在美國球型半導體公司帶領團隊研究無掩模光刻技術，并圍繞這項研究 獲得了100多項專利技術，此后無掩模光刻專利被國際上數家大公司采用。

2009~2010 年重組美國球形半導體公司，將梅文輝博士主導的研發團隊集合在一起，取得LDI發明專利在世界范圍內的使用權，并將這項技術和團隊帶回中山新諾科技股份有限公司，重新開始展開研發、生產、銷售無掩模光刻設備的業務，并快速擴展到多個領域的無掩膜光刻的應用之中。

在此基礎上，新諾科技以“攻堅未來產品，占位稀缺市場；融合政策方向，引導行業趨勢”為產品理念，志在打造我國“高速大面積光刻設備的航空母艦”。經過多年的垂成歷練，形成高精度印刷電路板（PCB）曝光設備、半導體集成電路高密度/3D封裝光刻設備、TFT/OLED平板顯示器、觸摸屏、光掩模板光刻設備三大應用方向的技術實力。

隨著5G概念的不斷實踐，高端載板在2018年呈現出強勁的增長勢頭，其中，以BGA封裝基板市場增長最快，總產值占比增長12.8%。未來，Data Center、云計算、5G無線技術等應用將持續驅動高端載板的成長，預計到2025年，我國的載板行業市場規模有望達到412.35億元左右。與此同時，載板的尺寸不斷縮小，集成度不斷提高，其技術相應地趨向于高密度封裝。

新諾科技的憑借“激光直接成像-數字化光刻技術”的核心實力，使先進激光動態掃描跳過掩模版的制備直接成像，可生產出最低小于1μm的高精細線路，其性能出眾，完全滿足高端PCB生產需求。

據市場總監 肖豐靈介紹，在高端PCB制造這一塊，公司技術最高能做到3-5μm的線路，遠高于當前市場需求的精細度。

新諾科技掌握了國際上數字化光刻技術的源頭，擁有數字化光刻技術原始專利并在此基礎上創新出大量自主知識產權：申請專利75項（已授權中國發明17項、實用新型10項、 美國發明3項）；軟件著作權7項；企業標準3項。

公司2018年在PCB市場實現銷售突破1億，業績增長超過百分之一百，預期2019年將實現2億營收。

公司擁有崇達集團、博敏集團、勝宏集團、深聯電路、嘉立創集團、中信華集團、惠亞集團、建滔集團、伯恩、藍思、歐菲光等優質客戶。