在精密制造與科研領(lǐng)域，納米級的定位精度往往是決定成敗的關(guān)鍵。為了滿足大行程與高精度的平衡需求，芯明天推出全新P15.XY1000壓電納米定位臺，在繼承P15系列卓越性能的基礎(chǔ)上，將單軸行程提升至1mm，同時延續(xù)納米級精度與高穩(wěn)定性，為更大范圍的精密應(yīng)用提供全新解決方案。

一、P15.XY1000S/K：超大行程與高精度的雙重突破

作為P15系列的大行程新成員，P15.XY1000S/K在保留系列核心優(yōu)勢的基礎(chǔ)上，針對大范圍精密運動需求做了關(guān)鍵升級，核心亮點集中在兩點：

1.1mm/軸超大行程：覆蓋更廣闊的應(yīng)用場景

P15.XY1000S/K實現(xiàn)了單軸行程可達1000μm，XY二維運動可覆蓋1mm×1mm的范圍，這意味著在處理大尺寸樣品，如更大面積的晶圓、生物組織切片時，無需頻繁移動樣品臺或調(diào)整光路，既能減少重復(fù)定位誤差，又能顯著提升檢測和加工效率。

2.納米級精度：溫度漂移零影響

高精度是壓電納米定位臺的核心價值，P15.XY1000S/K通過兩大設(shè)計保障精度：

1）內(nèi)置高性能壓電陶瓷：響應(yīng)速度快、輸出力穩(wěn)定，確保運動的平順性與重復(fù)性；

2）閉環(huán)版本全橋設(shè)計：通過特殊的閉環(huán)全橋連接方式，可實時補償環(huán)境溫度變化帶來的誤差，避免溫度漂移對定位精度的影響，即使在長時間連續(xù)工作或溫度波動環(huán)境中，仍能穩(wěn)定保持納米級定位精度。

二、產(chǎn)品優(yōu)勢

P15.XY1000S/K延續(xù)了P15系列經(jīng)過市場驗證的高可靠性優(yōu)點，這些共同優(yōu)勢讓P15.XY1000S/K系列成為眾多行業(yè)的首選：

1.無摩擦、高精度撓性導(dǎo)向系統(tǒng)：摒棄傳統(tǒng)機械導(dǎo)軌的摩擦磨損問題，撓性結(jié)構(gòu)無間隙、無損耗，不僅壽命更長，還能保證長期使用后的精度穩(wěn)定性，適合高頻次、長時間的精密操作如連續(xù)顯微成像、高頻激光掃描；

2.可選配閉環(huán)傳感器：根據(jù)需求靈活選擇開環(huán)或閉環(huán)版本，閉環(huán)版本精度更高，可達納米級；

3.掃描平整度高：運動過程中XY軸的線性度與角度跳動極小，F(xiàn)EA優(yōu)化設(shè)計，確保在掃描過程中（如表面檢測、三維成像）數(shù)據(jù)無畸變、畫面無偏移；

4.具有中心通孔：專為透射光應(yīng)用設(shè)計，如共焦顯微鏡、近場掃描光學(xué)顯微鏡等；

5.真空版本可選：可選拓展至真空環(huán)境應(yīng)用，突破常規(guī)定位臺的環(huán)境限制。

三、典型應(yīng)用

結(jié)合1mm超大行程與高穩(wěn)定性，P15.XY1000S/K能在以下領(lǐng)域發(fā)揮關(guān)鍵作用：

1.半導(dǎo)體制造

大尺寸晶圓的加工和缺陷檢測中，1mm行程可覆蓋晶圓局部更大范圍區(qū)域，減少晶圓移動次數(shù)，提升加工效率與對準精度。

2.表面檢測與三維成像

對大面積金屬表面、復(fù)合材料樣品的微觀形貌檢測，P15.XY1000S/K可實現(xiàn)一次掃描覆蓋更大面積，避免多次拼接帶來的誤差，讓檢測數(shù)據(jù)更精準。

3.生物技術(shù)與微操作

在生物工程如胚胎操作、細胞分選中，大行程可適配更大的培養(yǎng)皿或生物芯片，同時納米級精度確保了微操作（如細胞注射）的成功率。

4.激光技術(shù)與微納加工

激光刻蝕、激光打標等微加工場景中，可幫助實現(xiàn)更大面積的微結(jié)構(gòu)加工，同時高精度保障刻蝕圖案的一致性。

5.度量衡學(xué)與精密對準

在計量測量、光學(xué)對準等高精度測算場景中，可覆蓋更大的測量范圍，配合納米級精度，快速實現(xiàn)定位狀態(tài)，提升工作效率。

四、技術(shù)參數(shù)

推薦控制器

E70.D2S-L多通道壓電控制器是基于標準E70壓電控制器進行通信接口變換的兩通道壓電控制器，可通過串口、USB或網(wǎng)口進行數(shù)字通信，非常適用于驅(qū)動P15.XY1000S/K系列壓電納米定位臺。E70.D2S-L控制器采用DC24V供電，帶寬達10kHz，可通過模擬或數(shù)字信號進行控制，開/閉環(huán)可選。

審核編輯 黃宇