KLA Instruments 小課堂

定期分享KLA Instruments旗下產品的各種技術資料、應用筆記和使用指南。

旗下產品包括：輪廓儀、納米壓痕儀、薄膜測厚儀、方阻測量儀以及晶圓缺陷檢測系統。

9月10日–9月12日

KLA Instruments將亮相

第二十六屆中國國際光電博覽會

China International Optoelectronic Exposition

第二十六屆中國國際光電博覽會（CIOE中國光博會）將于2025年9月10-12日在深圳國際會展中心舉辦。作為覆蓋光電全產業鏈的綜合型展會，CIOE中國光博會匯聚了來自全球超30個國家和地區的超3800家的優質參展企業，八大主題展覆蓋信息通信、精密光學、攝像頭技術及應用、激光及智能制造、紅外、紫外、智能傳感、新型顯示、AR & VR、光電子創新等板塊， 是尋找研發和生產制造中所需要的材料、器件、設備及解決方案的一站式高效采購平臺，也是精準商貿需求配對，快速拓展商業社交圈，把握行業發展前沿資訊和動態的商貿平臺。

KLA Instruments將借此次機會展出Zeta光學輪廓儀，iNano納米壓痕儀，Filmetrics膜厚儀，Filmetrics方塊電阻測量儀等多款重點機型，期待您的蒞臨。

展會時間：2025年9月10日–12日

展會地點：深圳國際會展中心

寶安新館7號館

展位號：7B13

先睹為快！精華提前劇透！

本期課程：

Zeta缺陷檢測和表征的應用

Zeta光學輪廓儀缺陷標記

失效分析依賴于在樣品上識別出一個關注區域（ROI），以便在掃描電子顯微鏡（SEM）、聚焦離子束（FIB）或原子力顯微鏡（AFM）下進行后續詳細分析。一個方法是使用手持刻刀在觀光學顯微鏡下對樣品進行標記。當被標記的特征比較大且與周圍的其他特征明顯不同時，這種方法是合適的。然而，標記小尺寸的確實是具有挑戰性的，較小的物鏡工作距離限制了手持刻劃工具靠近關鍵區域的能力。從而導致關鍵區域在分析工具中難以找到。

KLA Instruments的Zeta光學輪廓儀開發了原位刻劃功能，解決了這一問題。光學輪廓儀集成了的劃線物鏡，可以輕松定位和標記ROI，以便進一步分析。劃線物鏡安裝在電動物鏡轉臺，在電動載臺的配合下，使得刻劃標記可以精確且快速地放置在靠近關注區域的位置。圖1中顯示了物鏡轉臺上的劃線物鏡。

圖1. 安裝在物鏡轉臺上的劃線物鏡

劃線物鏡可在各種硬度范圍的材料輕松地刻劃。可以選擇三種不同的金剛石尖端曲率半徑（2微米、5微米和10微米）以滿足其樣本的特定要求。圖2展示了鋁、玻璃和硅上的刻劃功能標記，盡管硬度有所不同，劃線物鏡在這三種材料上都能清晰地留下標記。由劃線物鏡施加在樣品上的負載是可調的，還能夠在硬度范圍從比鋁軟到比硅硬的其他材料上進行標記。幾個書寫模式預先編程以滿足各種客戶需求。圖3顯示了一個圖案化的十字，圍繞并指向關注區域。十字每條線的末端與ROI位置之間的距離可以進行調整。圖4展示了一種錯開的模式，這種模式可幫助快速定位ROI所在方向，并找到ROI的位置。

圖2. 劃線物鏡可在不同硬度的材料上標記，包括鋁（左）、玻璃（中）和硅（右）

圖3.交叉標記模式，ROI區域位于交叉標記中間

圖4. 錯開標記模式

刻劃功能與自動光學檢測（AOI）互聯

AOI是用于掃描樣品缺陷的大小和位置的技術。AOI在以下方面非常有用：（1）定位難以發現的孤立缺陷，（2）在存在多個缺陷時收集統計尺寸分布，以及（3）缺陷表征。使用刻劃功能標記缺陷的位置以便進一步研究，并導出缺陷KLARF文件可快速追蹤缺陷位置。圖5展示了使用AOI功能發現了兩個缺陷的例子。

圖5. Zeta AOI缺陷檢測應用程序定位的缺陷示例

AOI可生成缺陷列表并進行分類。圖 6 展示了缺陷列表中選擇了特定缺陷，然后將其定位在視場中，接著選擇更高倍數的物鏡進行三維數據收集。

圖6. Zeta AOI分析能力的缺陷追蹤

AOI缺陷檢測、原位刻劃功能和三維輪廓測量等功能的協同配合，可實現缺陷表征。可以從AOI缺陷列表中選擇特定的缺陷，使用劃線物鏡對其進行標記，并對缺陷進行三位輪廓表征，并通過標記以便以后進行后續詳細分析。圖 7 展示了測量缺陷的高度和橫向尺寸結果。

圖7.AOI定位缺陷進行缺陷三維輪廓表征

結論

Zeta光學輪廓儀利用ZDot成像技術，提供靈活且強大的測量功能，用于表征各種樣品。劃線物鏡能夠精確標記ROI在硬材料和軟材料上的位置，以便后續分析。將劃線物鏡與自動光學檢測和缺陷表征相結合，提供了一種強大的測量功能，將測量與后續分析測量連接起來。