Energetiq Technology是一家超亮寬帶光源的開發(fā)商和制造商，用于生命和材料科學(xué)，半導(dǎo)體制造和研發(fā)領(lǐng)域的各種先進(jìn)應(yīng)用。Energetiq的激光驅(qū)動光源(LDLS)基于革命性的技術(shù)，可在整個光譜中產(chǎn)生高亮度，具有高可靠性和長壽命。

目錄

#LDLS的突出優(yōu)勢

# 高性能分析光譜學(xué)

#納米材料的表征

#光發(fā)射電子顯微鏡(PEEM)

相關(guān)產(chǎn)品

相關(guān)資料

參考文獻(xiàn)

# LDLS的突出優(yōu)勢

● 超寬光譜范圍(170 nm-2500 nm)

● 小等離子體光點(~100 μm)

● 超高亮度

● 出色的空間穩(wěn)定性和強(qiáng)度穩(wěn)定性

● 長使用壽命超過10000小時

# 高性能分析光譜學(xué)

高性能分析光譜學(xué)在材料科學(xué)中廣泛應(yīng)用于分析復(fù)雜材料的分子組成或表征基于新材料和新工藝的光學(xué)性能。為了實現(xiàn)最精確的分析，需要覆蓋從最深的紫外線到可見光和近紅外的波長范圍。傳統(tǒng)上，使用了氘燈和鹵鎢燈的組合。這些燈的工作壽命短，亮度低，光譜范圍有限。Energetiq的EQ-99X和EQ-77激光驅(qū)動光源在整個光譜范圍內(nèi)提供更高的亮度，從170 nm到2500 nm (UV-Vis-NIR)和更長的壽命數(shù)量級，使新型儀器能夠以高精度和高效率分析尺寸更小，密度更高的樣品。

法國馬賽菲涅耳研究所的研究人員使用EQ-99X來表征用于將發(fā)射的衛(wèi)星儀器的復(fù)雜光學(xué)干涉濾光片的性能，他們設(shè)計和制造這些濾光片，以滿足在選定光譜帶內(nèi)的高傳輸要求，對所有剩余部分的極佳抑制，以及濾光片區(qū)域內(nèi)傳輸特性的空間均勻性。LDLS的寬帶輸出，結(jié)合其獨特的高亮度，空間和時間通量穩(wěn)定性，可以有效的對濾光片進(jìn)行表征以及在整個濾光片孔徑的光譜傳輸?shù)目臻g分辨均勻性測量。

圖1

左：濾波器的理論傳輸與實驗傳輸?shù)膶Ρ?綠色實線為實驗數(shù)據(jù))理論數(shù)據(jù)用紅色虛線表示);

右：光譜透過濾光片孔徑區(qū)域的空間均勻性。

# 納米材料的表征

納米材料正在幾乎所有可以想象到的領(lǐng)域產(chǎn)生新穎而深遠(yuǎn)的影響。由于其卓越的亮度和穩(wěn)定性，Energetiq的LDLS已被證明是表征各種納米材料類型的有價值和靈活的工具，包括但不限于單層，納米線和納米顆粒。LDLS支持并增強(qiáng)了表征新型光電探測器、太陽能電池、等離子體器件、光催化材料等的物理和光電子特性的各種技術(shù)。

例如，華中科技大學(xué)的研究人員使用EQ-77 LDLS來照亮他們用二維SnSe2/MoS2層狀異質(zhì)結(jié)構(gòu)制造的光電探測器。即使其寬帶輸出經(jīng)過濾波以提供所需的窄帶500 nm照明，EQ-77也能提供卓越的功率密度、均勻性和穩(wěn)定性，用于表征這些光電探測器所需的精確測量。如下圖所示，他們能夠在4.51 mW/cm2的500nm照明下展示出令人印象深刻的9.1 x 103 A/W的光響應(yīng)性，比僅基于MoS2的光電探測器高出2個數(shù)量級。

圖2

(a)光照射下SnSe2 /MoS2異質(zhì)結(jié)構(gòu)光電探測器界面電荷轉(zhuǎn)移示意圖;

(b)暗光和500 nm光照下SnSe2 /MoS2異質(zhì)結(jié)構(gòu)的I-V曲線。插圖:設(shè)備光學(xué)圖像，比例尺 = 5 μm;

(c) 500 nm光照下光電探測器隨時間的光響應(yīng);

(d) 500 nm偏置1 v光照射下光電探測器的光響應(yīng)隨光照強(qiáng)度的變化。

# 光發(fā)射電子顯微鏡(PEEM)

材料科學(xué)中的表面科學(xué)技術(shù)，如光發(fā)射電子顯微鏡(PEEM)，可以利用像EQ-77這樣的LDLS光源的高亮度和深紫外輸出。在PEEM應(yīng)用中要求具有高光子能量以及短波長，光必須聚焦到樣品上的一個小點，直徑可能為100 μm。通常這要求光源必須通過PEEM儀器中的真空窗，同時可以實現(xiàn)顯著的工作距離。傳統(tǒng)的氙氣(Xe)和汞(Hg)電弧源在200 nm波長范圍內(nèi)的輸出很低，而且它們的大等離子體尺寸使得在樣品上對光源成像的效率很低。相比之下，EQ-77中~150 μm直徑的高亮度等離子體即使在較長的工作距離下也可以直接有效地對樣品上的區(qū)域進(jìn)行照射。短波長的高輸出，通常選擇從寬帶LDLS頻譜窄帶通濾波器，已被證明可以產(chǎn)生具有顯著的強(qiáng)度和對比度的PEEM圖像。

例如，華中科技大學(xué)的研究人員使用EQ-77 LDLS來照亮他們用二維SnSe2/MoS2層狀異質(zhì)結(jié)構(gòu)制造的光電探測器。即使其寬帶輸出經(jīng)過濾波以提供所需的窄帶500 nm照明，EQ-77也能提供卓越的功率密度、均勻性和穩(wěn)定性，用于表征這些光電探測器所需的精確測量。如下圖所示，他們能夠在4.51 mW/cm2的500nm照明下展示出令人印象深刻的9.1 x 103 A/W的光響應(yīng)性，比僅基于MoS2的光電探測器高出2個數(shù)量級。

圖3

圖3顯示的前兩幅圖像分別是hg弧燈和EQ-77在254 nm下的結(jié)果。在這兩張圖片之間，很明顯EQ-77提供了更大的對比度相比傳統(tǒng)的氫弧燈;第二組圖片是EQ-77在214 nm和193 nm的圖片，而在這些波長下使用傳統(tǒng)hg弧燈的PEEM產(chǎn)生的圖像對比度為零，難以區(qū)分。

EQ-77是一種卓越的PEEM光源，與傳統(tǒng)光源相比，由于其極高的亮度輸出和非常小的等離子體尺寸，當(dāng)聚焦到一個小點上時，用戶可以獲得更高質(zhì)量的結(jié)果。

審核編輯 黃宇