中微公司的電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備Primo nanova系列第500臺反應腔順利付運國內一家先進的半導體芯片制造商。

近日，中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱“中微公司”）的電感耦合等離子體（ICP）刻蝕設備Primo nanova系列第500臺反應腔順利付運國內一家先進的半導體芯片制造商。這是中微公司的又一重要里程碑，標志著ICP刻蝕設備的刻蝕性能、機臺穩定性和大規模量產能力已得到先進邏輯和存儲客戶的廣泛認可。本批次運付的ICP刻蝕設備Primo nanova系列產品，均來自該客戶的重復訂單。

此次付運的Primo nanova是中微公司針對先進的工藝節點與生產線的各種關鍵應用，基于電感耦合（ICP）技術研發的12英寸刻蝕設備，適用于先進的邏輯芯片、DRAM存儲芯片以及3DNAND存儲芯片的刻蝕。

中微公司Primo nanova Primo nanova最多可配置六個刻蝕反應腔和兩個可選的除膠反應腔。其中，刻蝕反應腔采用對稱設計，具有高反應氣體通量，其內部涂有的高致密性、耐等離子體侵蝕材料，減少刻蝕的負載效應并保證了更高的工藝重復性和生產率。

此外，Primo nanova發射天線的低電容耦合 3D線圈設計，可實現均勻的等離子密度，減少等離子體對陶瓷頂蓋的轟擊。Primo nanova的下電極采用了可實現多區動態溫控的靜電吸盤，或可選用能實現更多區域溫度調節的 Durga 靜電吸盤，使其加工的晶圓內的關鍵尺寸達到高度均勻性。客戶表示非常看重Primo nanova在大規模生產中穩定可靠的性能表現、顯著提升的生產率和相對較低的生產成本等方面的優勢。

憑借獨特的創新技術和差異化設計，中微公司等離子體刻蝕設備不斷擴大市場占有率，在國內外半導體前道設備行業占據領先地位。

2023年，中微公司營業收入約62.64億元，較2022年增加約15.24億元，同比增長約32.15%。其中，2023年刻蝕設備收入約47.03億元，同比增長約49.43%。占公司營業收入約 75.1% 的刻蝕設備在2021年和2022年分別增長了55.4%和57.1%。公司2023年新增訂單總金額約83.6億元，較2022年增加約20.4億元，同比增長達32.3%，其中刻蝕設備新增訂單達69.5億元，同比增長約60.1%。此外，中微公司綜合競爭優勢不斷增強，各項營運KPI指標已達到并在一些方面超過了國際先進半導體設備企業水平。在過去的十年中，中微公司的營業收入一直以高于35%的年平均增長速度持續增長。

中微公司副總裁、ICP產品部總經理陳煌琳談及這一付運里程碑時表示，中微公司始終緊跟先進制程工藝發展的最前沿，堅持原創創新設計，和國際領先的半導體客戶公司同步前行。中微公司總結過往經驗形成的“四個十大”的企業文化中，“產品開發的十大原則”首要強調的就是 “為達到設備的最高性能和客戶最嚴要求而開發”。正是中微公司的領先技術及專業服務使我們的刻蝕設備產品贏得了廠商的青睞，這是一種榮譽，更是一種動力。未來，我們也將持續為客戶和市場提供性能優越、高生產效率和高性價比產品，不斷促進技術創新、引領行業發展的同時幫助客戶實現技術和盈利目標。

審核編輯：劉清