晶圓是當(dāng)代重要的設(shè)備之一,通常熟悉晶圓、電子等相關(guān)專(zhuān)業(yè)的朋友。為了提高大家對(duì)晶圓的理解,本文將介紹晶圓和硅片的區(qū)別。如果你對(duì)晶圓感興趣,你可以繼續(xù)閱讀。
一、晶圓
(一)概念
晶圓是指由硅半導(dǎo)體集成電路制成的硅晶片,由于其形狀為圓形,稱(chēng)為晶圓;它可以加工成各種電路元件結(jié)構(gòu),并成為具有特定電氣功能的IC產(chǎn)品。晶圓的原料是硅,地殼表面有用的二氧化硅。
(二)晶圓的制造過(guò)程
晶圓是制造半導(dǎo)體芯片的基本材料,半導(dǎo)體集成電路的主要原料是硅,因此對(duì)應(yīng)硅晶圓。
硅在自然界中以硅酸鹽或二氧化硅的形式廣泛存在于巖石和礫石中。硅晶圓的制造可分為三個(gè)基本步驟:硅提煉和凈化、單晶硅生長(zhǎng)和晶圓形成。
首先是硅凈化,將砂石原料放入溫度約2000℃在有碳源的電弧熔爐中,碳與砂石中的二氧化硅在高溫下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)(碳與氧結(jié)合,剩余硅),純度約為98%純硅,又稱(chēng)冶金硅,對(duì)微電子設(shè)備不夠純,由于半導(dǎo)體材料的電氣特性對(duì)雜質(zhì)濃度非常敏感,因此冶金硅進(jìn)一步凈化:破碎冶金硅與氣體氯化氫氯化反應(yīng),產(chǎn)生液體硅烷,然后通過(guò)蒸餾和化學(xué)還原工藝,獲得高純度多晶硅,純度高達(dá)99.999999999%,成為電子級(jí)硅。
接下來(lái)是單晶硅的生長(zhǎng),最常用的方法是直拉法。石英坩堝中放置高純度多晶硅,周?chē)氖訜崞鞑粩嗉訜幔瑴囟缺3衷?400左右℃爐內(nèi)的空氣通常是惰性氣體,熔化多晶硅,不會(huì)產(chǎn)生不必要的化學(xué)反應(yīng)。為了形成單晶硅,還需要控制晶體的方向:坩堝與多晶硅熔化物旋轉(zhuǎn),浸泡一個(gè)籽晶體,用拉桿與籽晶反向旋轉(zhuǎn),并慢慢、垂直地從硅熔化物中拉出。熔化的多晶硅會(huì)粘在籽晶體的底部,并根據(jù)籽晶體的排列方向繼續(xù)生長(zhǎng)。因此,晶體的方向是由籽晶體決定的,拉出冷卻后,生長(zhǎng)成與籽晶內(nèi)晶格方向相同的單晶硅棒。直拉生長(zhǎng)后,單晶棒按適當(dāng)尺寸切割,然后研磨,磨掉凹凸痕跡,然后用化學(xué)機(jī)械拋光工藝使其至少一面光滑如鏡,完成晶片制造。
單晶硅棒的直徑由籽晶拉出的速度和旋轉(zhuǎn)速度決定。一般來(lái)說(shuō),上拉速度越慢,單晶硅棒的直徑就越大。切割晶片的厚度與直徑有關(guān)。雖然半導(dǎo)體設(shè)備的制備僅在晶片頂部幾微米范圍內(nèi)完成,但晶片的厚度一般為1mm,為了保證足夠的機(jī)械應(yīng)力支撐,晶圓的厚度會(huì)隨著直徑的增加而增加。
晶圓制造商將這些多晶硅熔化,然后在溶液中種植籽晶,然后慢慢拉出形成圓柱形單晶硅晶棒,因?yàn)楣杈О羰窃谌廴诠柙现兄饾u生成的晶體表面確定的籽晶體,這個(gè)過(guò)程被稱(chēng)為長(zhǎng)晶體。硅晶棒經(jīng)過(guò)切割、研磨、切割、倒角、拋光、激光雕刻、包裝后,成為集成電路工廠(chǎng)的基本原料——硅晶片,即晶片。
(三)晶圓的基本原料
硅是由石英砂所精練出來(lái)的,晶圓是純化硅元素(99.999%),然后將這些純硅制成硅晶棒,成為制造集成電路的石英半導(dǎo)體材料。經(jīng)過(guò)攝影制版、研磨、拋光、切片等程序,將多晶硅融解拉出單晶硅晶棒,切成薄晶圓。
二、硅片
(一)定義
硅片是制造晶體管和集成電路的原材料。它通常是一個(gè)單晶硅片。硅片是制造集成電路的重要材料,通過(guò)光刻、離子注入等方式制造各種半導(dǎo)體設(shè)備。由硅片制成的芯片具有驚人的計(jì)算能力。科學(xué)技術(shù)的發(fā)展不斷促進(jìn)了半導(dǎo)體的發(fā)展。自動(dòng)化和計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展降低了硅片(集成電路)的成本。
(二)硅片的規(guī)格
硅片規(guī)格有多種分類(lèi)方法,可以按照硅片直徑、單晶生長(zhǎng)方法、摻雜類(lèi)型等參量和用途來(lái)劃分種類(lèi)。
1.按硅片直徑劃分
硅片直徑主要為3寸、4寸、6寸、8寸、12寸(300寸)mm),目前已發(fā)展到18英寸(450英寸)mm)和其他規(guī)格。直徑越大,通過(guò)一次工藝循環(huán)可以在硅片上生產(chǎn)的集成電路芯片越多,每個(gè)芯片的成本越低。因此,大直徑硅片是硅片制造技術(shù)的發(fā)展方向。但硅片尺寸越大,對(duì)微電子工藝、材料和技術(shù)的要求就越高。
2.按單晶生長(zhǎng)方法劃分
直拉法制的單晶硅稱(chēng)為CZ硅(片);磁控直拉法制的單晶硅稱(chēng)為MCZ硅(片);懸浮區(qū)熔融法制的單晶硅稱(chēng)為FZ硅(片);硅外延層生長(zhǎng)在單晶硅或其它單晶襯底上,稱(chēng)為外延(硅片)。
三、那么硅片與晶圓的到底有什么區(qū)別
未切割的單晶硅材料是一種叫做晶片的薄片,是半導(dǎo)體工業(yè)的原材料,切割后稱(chēng)為硅片,通過(guò)光刻、離子注入等方式,可制成各種半導(dǎo)體設(shè)備。
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