隨著半導體技術的不斷發展，對工藝技術的要求越來越高，特別是對半導體圓片的表面質量要求越來越嚴，其主要原因是圓片表面的顆粒和金屬雜質沾污會嚴重影響器件的質量和成品率，在目前的集成電路生產中，由于圓片表面沾污問題，在生產過程中造成了很多原材料的浪費。不能獲取最高的經濟效益。

在半導體生產工藝中，幾乎每道工序中都需要進行清洗，圓片清洗質量的好壞對器件性能有亞重的影響。正是由于圓片清洗是半導體制造工藝中最重要、最頻繁的工步，而且其工藝質量將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性，所以國內外各大公司、研究機構等對清洗工藝的研究一直在不斷地進行。

目前已研制出的圓片清洗技術有:濕法化學清洗、超聲清洗、兆聲清洗、鼓泡清洗、擦洗、高壓噴射法、離心噴射法、流體力學法、流體動力學法、干法清洗、微集射束流法、激光束清洗、冷凝噴霧技術、汽相清洗、非浸潤液體噴射法、在線真空清洗、RCA清洗、等離子體清洗、原位水沖洗等。這些方法和技術已被廣泛應用于半導體圓片的清洗工藝中。

普洛帝puluody公司研發的表面清潔度系統PSC-3A，它一種通過熒光檢測技術量化檢測金屬、陶瓷、玻璃、半導體等材料表面污染物的儀器，以RFU值相對熒光值表示清潔度的高低。RFU為相對熒光強度值，RFU值越大，零件表面的殘留污染物含量也越高，反之則相反。

PSC-3A清潔度檢測儀

英國普洛帝分析測試集團推出全新一代PULUODY系列PSC-3A表面清潔度檢測儀，它采用了多種自有技術和精準算法，具有非常高的靈敏度、準確性和重復性，在0.1~30秒內就可以測量出各種表面材料上污染的油脂污染物的含量，測量結果直接以標準值或百分比示值表示，極大方便了用戶對產品質量及數據的解讀和分析。

PULUODY系列表面清潔度檢測儀代表了快速油脂污染物測量的高水平和發展方向，科學應用表面清潔度檢測儀可以實時監測零部件表面清潔度狀況，提高生產效率，為用戶優化生產工藝并帶來持續的效益。

功能特點：

測量精度：

選擇性高，靈敏度高，最低檢出限可達1ug/ml、0.01FU（RFU）或0.01%，適合于各類烷烴類、烯烴類、炔烴類、芳香烴、多環（或雜環）芳烴等石油基物（礦物油和合成油）質及各種熒光物質（C5~CN有機物）的痕量分析。

工 作 原 理：

PCS系列表面清潔度檢測儀采用PULUODY專有的熒光能量光譜檢測技術，

當PCS熒光能量光譜激光器光子源照射到物質上時，熒光的能量使原子核周圍的一些電子由原來的軌道躍遷到了能量更高的軌道，第一激發單線態或第二激發單線態等是不穩定的，所以會恢復基態，當電子由第一激發單線態恢復到基態時，能量會以光的形式釋放，所以產生光物質中各種元素發出混和在一起的各自特征的熒光。這些特征的熒光具有特征的波長或能量，每種熒光的強度與物質中發出該種熒光元素的濃度相關。為了區分混和在一起的各元素的熒光，首先使用PCS熒光能量光譜探測器接收所有不同能量的熒光，通過探測器轉變成電脈沖信號，經前置放大后，用多道脈沖高度分析器（MPHA）進行信號處理，得到不同能量熒光的強度分布譜圖，儀器根據熒光的強度分布譜圖進行分析，系統處理器利用先進的算法就可以將其解算為表面的清潔程度。

技術參數：

可測油脂：油漬、油脂、冷卻潤滑劑、切削液、蠟（C5~CN有機物）

測量示值：0~100%的油脂污染物相對清潔度

分 辨 率：0.01%

誤 差 率：0.5%

FU測量值：0~1950FU/清潔度

分 辨 率：0.01FU/清潔度

誤 差 率：0.5%

油膜厚度：0~9950mg/mm2

分 辨 率：0.1mg/mm2

誤 差 率：0.5%

測 量 點：0~1.5mm或0~5mm

測量距離：3.5~4.5mm或20mm

激 發 波：動態X熒光

激發功率：150wn

檢測頻率：≥ 50 次/秒

標準參照：可在各類表面校準

計量溯源：GBW或NIST溯源

儀器校準：自動校準、手動校準和多點校準

測量點數：可根據被測表面調整（1~5點）

通訊輸出：R485或R232

控制方式：PC機或工控機等

電源：可充電電池或電源適配器、220V