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NCM811在常溫和高溫下長循環(huán)過程中結(jié)構(gòu)變化的比較

鋰電聯(lián)盟會(huì)長 ? 來源:鋰電聯(lián)盟會(huì)長 ? 作者:鋰電聯(lián)盟會(huì)長 ? 2022-03-31 14:20 ? 次閱讀
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鋰離子電池(LIB)通常在室溫下運(yùn)行,但某些應(yīng)用也要求其在更高的溫度下運(yùn)行。層狀過渡金屬氧化物是LIB中應(yīng)用最廣泛的正極活性材料(CAM),具有高能量和功率密度以及長循環(huán)壽命。但對于CAM而言,高溫運(yùn)行會(huì)加速其失效。因此,系統(tǒng)地比較CAM在常溫和高溫下的長循環(huán)性能,并弄清CAM在高溫與室溫下的衰減機(jī)理至關(guān)重要。

德國慕尼黑工業(yè)大學(xué)的Hubert A. Gasteiger等人系統(tǒng)地比較了富鎳NCM811在兩個(gè)不同溫度下的容量衰減。與22℃相比,NCM811在45℃下降解,導(dǎo)致容量損失增加了一倍以上。與CAM體相和表面有關(guān)的潛在降解機(jī)理通過幾種非原位技術(shù)進(jìn)行了定量。結(jié)果證明降解主要發(fā)生在一次顆粒表面,形成高電阻的無序表面層,到測試結(jié)束,其厚度在22℃時(shí)達(dá)到≈6nm,在45℃時(shí)達(dá)到≈12-14nm。此外,高溫下,體相中的鋰鎳混排比增加了約1%–2%,但其對容量損失的貢獻(xiàn)仍難以確定。相關(guān)研究成果以“A Comparative Study of Structural Changes during Long-Term Cycling of NCM-811 at Ambient and Elevated Temperatures”為題發(fā)表在國際知名期刊Journal of The Electrochemical Society上。

【內(nèi)容詳情】一、電化學(xué)全電池?cái)?shù)據(jù)

設(shè)計(jì)了NCM811/預(yù)鋰化石墨全電池,以了解降解過程。圖1顯示,在6個(gè)電池中,容量衰減的重現(xiàn)性非常好。

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圖 1、NCM811/預(yù)鋰化石墨全電池在45℃下的循環(huán)性能。(a)比容量。(b)平均充放電電壓。(c)65% SOC時(shí)的DCIR電阻

表I比較了45℃與22℃測試開始(BOT)放電容量值,以及測試結(jié)束時(shí)的放電容量值(EOT)。45℃下6圈的BOT容量比22℃下18圈增加了≈24 mAh g?1,這歸因于高溫下的動(dòng)力學(xué)增強(qiáng)。但是,在45℃時(shí)衰減更快。

表 1、C/2放電容量的比較。

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C/2下每圈容量衰減比C/10多,表明過電位引起的容量損失可能是由于高電阻表面層的形成或CAM體電阻增加引起的。圖1b顯示,平均放電電壓的降低始終高于平均充電電壓的提高。即,對于相同鋰含量,在放電過程中正極電阻要高得多。圖1c顯示了正極直流內(nèi)部電阻(RDCIR)的演變,所有六個(gè)電池的RDCIR幾乎呈線性上升。

表 2、比較NCM811正極在22℃和45℃下C/2和C/10循環(huán)時(shí)平均電壓的變化。

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二、通過EIS驗(yàn)證DCIR測量

由于DCIR測量不能確定循環(huán)時(shí)正極電阻的哪個(gè)分量會(huì)增加,因此對軟包電池電極進(jìn)行了非原位EIS分析。

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圖2、軟包電池正極非原位EIS分析。(a)在與全電池DCIR脈沖相同的條件下測量阻抗譜。(b)將平均RDCIR與正極電荷轉(zhuǎn)移電阻(RCT)進(jìn)行比較。

如圖2a所示,對稱的Li/自支撐石墨(FSG)電池阻抗虛部在≈1 Ω cm2以下,實(shí)部在≈5 Ω cm2以下。與NCM811正極相比,這些阻抗非常小。圖2中頻譜具有兩個(gè)半圓:(i)高頻下的一個(gè)小半圓,以及(ii)低頻下的另一個(gè)半圓,其直徑在循環(huán)時(shí)會(huì)顯著增加。高頻半圓對應(yīng)于正極和集流體之間的接觸電阻(Rcontact)。低頻半圓代表多孔電極中的電解質(zhì)相(Rion)和電荷轉(zhuǎn)移電阻(RCT)。Rcontact在≈12–26 Ω cm2范圍內(nèi)。對于循環(huán)250圈的樣品,Rion值為≈0.75–1.5 Ω cm2。45℃下,RCT從6圈后的≈7 Ω cm2增加到700圈后的246 Ω cm2。這比22℃時(shí)要高得多,表明在高溫下形成了更厚的高電阻表面層。

圖2b顯示,整個(gè)循環(huán)過程中,RDCIR和0.1 Hz時(shí)的低頻阻抗(Z0.1Hz)均在±10 Ω cm2之內(nèi)。即使此處測得的RCT主要來源于從CAM表面逐漸向其內(nèi)部生長的尖晶石巖鹽相,但也存在著電解質(zhì)分解產(chǎn)物形成高電阻表面層的可能性,通常將其稱為正極-電解質(zhì)中間相(CEI)。高頻半圓顯然無法辨別兩種不同類型的表面層的出現(xiàn)。但是,可以基于(i)電解質(zhì)對陽極氧化的電化學(xué)穩(wěn)定性和(ii)對反應(yīng)性晶格氧的化學(xué)穩(wěn)定性來評估CEI的重要性。總之,不能完全排除CEI的形成,特別是在45℃下,析氧和電解質(zhì)分解都增加了。RCT在充電開始和結(jié)束時(shí)都顯著增加,這是由于鋰在尖晶石表面層中的擴(kuò)散變慢所致。

三、通過XPD分析了整體穩(wěn)定性和鋰鎳混排度

層狀氧化物整體穩(wěn)定性通常指陽離子混排度,其中過渡金屬不可逆地從TM層移動(dòng)到Li層。精修結(jié)果顯示原始和EOT之間的LiNi混排度沒有系統(tǒng)的變化,保持恒定在3%。

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圖 3、放電狀態(tài)下NCM811電極的非原位XPD確定Li-Ni混排。(a)700圈后,對EOT NCM811進(jìn)行精修。(b)Li-Ni混排演變。

表3、NCM811(原始CAM粉末,原始電極以及循環(huán)和放電電極)的精修結(jié)果。

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圖3a顯示,除了2 wt%導(dǎo)電石墨外,沒有其他雜相。NCM811層狀結(jié)構(gòu)得到了很好的保存。圖3b顯示,XPD數(shù)據(jù)只有在400圈后有所不同,偏差為≈0.6%。從原始CAM開始,其鋰鎳混排比≈1.8%–2.0%。對于僅循環(huán)了6圈的正極,Li-Ni混排度與原始CAM粉和原始電極一致。繼續(xù)循環(huán),Li-Ni混排會(huì)增加≈1%–2%。總之,在700圈中,由循環(huán)誘導(dǎo)的Li-Ni混排增加可以忽略不計(jì),體相中Li擴(kuò)散動(dòng)力學(xué)減慢對容量衰減的貢獻(xiàn)可能較大。

四、通過XPD分析獲得鋰含量從放電狀態(tài)正極的XPD分析表明,循環(huán)后放電NCM811鋰含量穩(wěn)步下降,可能是過電勢增加所致。

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圖 4、NCM811在充放電狀態(tài)下的鋰含量。(a)循環(huán)1和循環(huán)2中,c/a與OCV的關(guān)系,以及與NCM811的c/a曲線的比較。將c/a數(shù)據(jù)點(diǎn)轉(zhuǎn)換為鋰含量:(b)放電狀態(tài)鋰含量xLi,dis;(c)充電狀態(tài)鋰含量xLi,cha。

圖4a顯示,完全充放電狀態(tài)下的c/a與初始校準(zhǔn)曲線完全吻合,與循環(huán)溫度無關(guān)。c/a值在充放電狀態(tài)下都隨著循環(huán)而增加,表明OCV窗口正在縮小。由于c/a=f(OCV)相關(guān)性在循環(huán)時(shí)保持不變,且由于OCV是絕對SOC的間接度量,因此可以繼續(xù)將c/a轉(zhuǎn)換為鋰含量。

首先看一下BOT值,45℃的容量比22℃高≈24 mAh g-1。該容量增加主要在放電狀態(tài)下發(fā)生,因?yàn)樵诜烹姞顟B(tài)下xLi,dis高≈0.08,而在充電狀態(tài)下xLi,cha僅低≈0.02。固態(tài)鋰擴(kuò)散會(huì)阻礙鋰在放電過程中插回到層狀氧化物中。xLi,dis隨循環(huán)不斷地減小,而xLi,cha隨著循環(huán)增加。此外,xLi,dis在550和700圈之間不再繼續(xù)減小。45℃下700圈后xLi從BOT到EOT的變化ΔxLi,dis和ΔxLi,cha比22℃下1000圈后高約1.4-1.5倍,這與較高溫度下更強(qiáng)的過電勢增長相關(guān)。

五、容量損失分析

材料損失可以通過在一次顆粒周圍形成高電阻的貧氧表面層來解釋,活性材料損失計(jì)算如下:

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其中9495706e-b0ad-11ec-aa7f-dac502259ad0.png是第i個(gè)循環(huán)中電化學(xué)測得的放電容量(EC),而94a9ce7e-b0ad-11ec-aa7f-dac502259ad0.png是從XPD推斷出的理論容量:

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94a9ce7e-b0ad-11ec-aa7f-dac502259ad0.png9495706e-b0ad-11ec-aa7f-dac502259ad0.png之間的差值表示第i個(gè)循環(huán)中活性材料損耗;如果將此差值用94a9ce7e-b0ad-11ec-aa7f-dac502259ad0.png歸一化,則反映了活性材料的相對損耗。

圖5顯示,在45℃下循環(huán)的電極,通過EC與XPD方法獲得的活性材料損失匹配度在±1%內(nèi)。

950aafaa-b0ad-11ec-aa7f-dac502259ad0.png

圖5、在45℃下3.0–4.5 V之間循環(huán)時(shí)NCM811的材料損耗。

對于22℃下循環(huán)的電極,大多數(shù)活性材料會(huì)在前200–300圈內(nèi)損失,然后趨于平穩(wěn),并在1000圈后達(dá)到≈8.5%。對于45℃下循環(huán)的電極,材料損失在開始時(shí)顯示出相似的趨勢。45℃下700圈后的EOT值≈15.6%-18.2%,是22℃下1000圈后的兩倍。

但是,是什么導(dǎo)致溫度依賴性的呢?在高溫下更明顯的物質(zhì)損失表明存在一個(gè)更厚的重構(gòu)貧氧表層。但是,SOC上限幾乎不受溫度上升影響。NCM811在SOC閾值以上的氧氣釋放速率為≈80%,這對應(yīng)于較高的截止電位下的xLi,cha值約為0.20。如圖4c所示,在22℃下750圈以及在45°C下550圈以內(nèi),xLi,cha保持在0.20以下。因此,氧氣的釋放幾乎可以無限地進(jìn)行。假定層狀結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)楦唠娮璞砻鎸邮莾刹竭^程。釋放氧氣后,必須重排然后耗盡O結(jié)構(gòu)中的過渡金屬,以形成尖晶石/巖鹽表面層,該表面層無法可逆地脫嵌鋰離子。

六、裂紋和表層厚度

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圖6、在45℃循環(huán)過程中,NCM811表面積(ABET,CAM)的變化。

最后,要估計(jì)在循環(huán)中形成的重構(gòu)表面層的厚度,這需要確定CAM的表面積。圖6顯示,在循環(huán)電極中,NCM811表面積處于相當(dāng)恒定的水平,且在700圈后增加到2.6 m2/g。原始CAM粉末表面積明顯低得多,為0.28 m2/g。因此,主要看到的是二次顆粒外表面,而一次顆粒內(nèi)表面看不到,原因有二:(i)煅燒后,晶粒緊密堆積,中間的孔體積很小;(ii)孔由于存在表面雜質(zhì),一次顆粒微晶之間的空間被阻塞。可以通過水洗除去。在每個(gè)循環(huán)中可逆的收縮/膨脹導(dǎo)致一次顆粒間的錯(cuò)配度增大,從而使它們在放電狀態(tài)下的堆積不像原始狀態(tài)下那樣密集,暴露了額外的內(nèi)表面。

處于充電狀態(tài)的收縮微晶應(yīng)表現(xiàn)出最大的表面積。因此,在45℃下以C/10充電至4.5 V后測量了充電電極的Kr-BET,得出CAM比表面積為3.1±0.2 m2/g。表面重構(gòu)取決于晶界類型及其對電解質(zhì)的暴露。計(jì)算出的厚度僅能提供估計(jì)值。因此繼續(xù)使用充電電極的3.1m2/g,因?yàn)樵撝荡砹怂锌赡艽嬖谟陔娊赓|(zhì)中的微晶表面。使用前述方程,相對材料損耗被轉(zhuǎn)換為平均厚度tsurface-layer。此處計(jì)算的厚度表示電化學(xué)惰性表面層,但在給定循環(huán)次數(shù)下,該表面層可能比貧氧表面層薄。最初的氧氣釋放必須通過過渡金屬重排來完成。當(dāng)充電電極比表面積≈3.1 m2/g時(shí),22℃下重新計(jì)算1000圈后的EOT值為≈6 nm。根據(jù)清洗后CAM的1.2 m2/g估算約15 nm。45℃下,經(jīng)700圈后,表面層厚度約為≈12–14 nm。

【結(jié)論】

本文比較研究了富鎳層狀氧化物NCM811在常溫(22℃)和高溫(45℃)下的降解機(jī)理。與22℃相比,在45℃下,C/2循環(huán)過程中的容量損失增加了一倍以上。為了闡明可能的降解機(jī)理,使用了非原位技術(shù)進(jìn)行表征,包括XPD,EIS和Kr-BET。可以將≈60%的容量損失歸因于活性物質(zhì)損失,這是由重構(gòu)的電化學(xué)惰性表面引起的。而22℃下循環(huán)1000圈后,材料損失僅為≈40%。重構(gòu)的貧氧表面形成導(dǎo)致NCM811電荷轉(zhuǎn)移電阻增加,并進(jìn)一步導(dǎo)致過電勢增大,引起容量損失。45℃下循環(huán)700圈后,一次顆粒表面重構(gòu)層厚度約為12–14 nm,而在25℃下循環(huán)1000圈后,僅約6 nm。這歸因于較高溫度下氧釋放和過渡金屬重排動(dòng)力學(xué)更快。

審核編輯 :李倩

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原文標(biāo)題:NCM811在常溫和高溫下長循環(huán)過程中結(jié)構(gòu)變化的比較

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    快速溫變試驗(yàn):環(huán)境適應(yīng)性檢測的關(guān)鍵手段

    電源濾波器長期使用過程中,其耐壓性能是否會(huì)有所變化

    電源濾波器耐壓性能會(huì)隨使用時(shí)間變化,包括電容老化、電感老化、電阻老化以及工作狀況影響電壓波動(dòng)和環(huán)境因素影響高溫環(huán)境。為提高長期耐壓性能,應(yīng)優(yōu)化設(shè)計(jì)濾波器電路和結(jié)構(gòu),選用優(yōu)質(zhì)元件,定期維護(hù)和檢測。
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    半導(dǎo)體制造過程中的三個(gè)主要階段

    前段工藝(Front-End)、中段工藝(Middle-End)和后段工藝(Back-End)是半導(dǎo)體制造過程中的三個(gè)主要階段,它們制造過程中扮演著不同的角色。
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    半導(dǎo)體制造<b class='flag-5'>過程中</b>的三個(gè)主要階段

    厚聲電阻高溫環(huán)境的卓越性能

    電子元器件領(lǐng)域,厚聲電阻以其出色的性能和廣泛的應(yīng)用領(lǐng)域而備受關(guān)注。特別是高溫環(huán)境,厚聲電阻的性能表現(xiàn)尤為突出。 厚聲電阻器通過獨(dú)特的芯片結(jié)構(gòu)
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    厚聲電阻<b class='flag-5'>在</b><b class='flag-5'>高溫</b>環(huán)境<b class='flag-5'>下</b>的卓越性能