據(jù)報道，三星電子今（6）日宣布，三星高級技術學院（SAIT）的研究人員與蔚山國家科學技術學院（UNIST）、劍橋大學兩家高校合作，發(fā)現(xiàn)了一種名為非晶態(tài)氮化硼（a-BN）的新材料，此項研究可能加速下一代半導體材料的問世。

三星表示，SAIT最近一直在研究和開發(fā)二維（2D）材料——只有一層原子的晶體材料。具體來說，研究所一直致力于石墨烯的研究與開發(fā)，并在該領域取得了突破性的研究成果，如開發(fā)了一種新型石墨烯晶體管，以及一種生產大面積單晶片級石墨烯的新方法。除了研究和開發(fā)石墨烯，SAIT一直致力于加速這種材料的商業(yè)化。

該報道稱，這種新發(fā)現(xiàn)的材料被稱為非晶態(tài)氮化硼（a-BN），由硼和氮原子組成，為非晶態(tài)結構。非晶態(tài)氮化硼是由白色石墨烯衍生而來，其中硼原子和氮原子排列成六邊形結構，而a-BN的分子結構實際上使其與白色石墨烯有獨特之處。

SAIT石墨烯項目負責人、首席研究員Shin Hyeon-jin說：“為了增強石墨烯與硅基半導體工藝的兼容性，半導體襯底上的晶片級石墨烯生長應在低于400攝氏度的溫度下進行。我們也在不斷努力將石墨烯的應用擴展到半導體之外。”

無定形氮化硼具有一流的超低介電常數(shù)——1.78，具有較強的電氣和機械性能，可作為互連隔離材料，以減少電干擾。也證明了這種材料可以在400攝氏度的低溫下在晶圓片上生長。因此，非晶態(tài)氮化硼有望廣泛應用于DRAM和NAND解決方案等半導體，特別是用于大規(guī)模服務器的下一代內存解決方案。

對此，SAIT副總裁兼無機材料實驗室負責人Park Seong-jun表示，“最近，人們對2D材料及其衍生的新材料的興趣越來越大。然而，在現(xiàn)有的半導體工藝中應用該材料仍存在許多挑戰(zhàn)。我們將繼續(xù)開發(fā)新材料，引領半導體領域的轉變。”

另外，此項研究已發(fā)表在《自然》雜志上。

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