三星計劃大量引進韓國企業SEMES的蝕刻設備，該設備原先主要由日本半導體設備大廠東京威力科創（TEL）提供。韓國業界期待，韓國半導體設備能提升前段制程中的使用比重。

韓媒報道指出，明年上半年，三星電子計劃在中國西安第2工廠中增加SEMES的設備比重。西安工廠是三星電子唯一設廠在海外的存儲器半導體生產基地。去年3月起，三星電子開始在該地設廠，預定明年上半年啟動，未來該工廠主要將生產5代V-NAND閃存與100層以上的高端產品。

三星電子為將SEMES的蝕刻設備應用于5代NAND制程，正在進行最后階段產品測試。第5代NAND閃存是去年三星電子首次量產的產品，該產品制程也是首次使用SEMES蝕刻設備。

韓國科技媒體《etnews》報道指出，雖然三星電子也曾使用過SEMES的蝕刻設備，但此次投入的SEMES蝕刻設備規模非常大，加上可能會威脅到東京威力科創，引發外界關注。

蝕刻制程是制造半導體相當重要的環節之一，能夠讓線路成型，也能清潔芯片，需要高技術性的設備。目前三星電子、SK海力士等韓國半導體企業擁有國際等級的記憶體技術，但背后的制造設備幾乎仰賴海外企業，因此許多韓國專家們贊賞韓國設備技術國產化的進展。

不少人期待，在新一代存儲器制程中，三星電子能增加使用國產設備的比例。但目前業界普遍認為，此案例也側面印證韓國設備技術已經趕上國外企業的技術水平。