伊頓注入機具有改進的高傾斜吞吐量功能
馬薩諸塞州貝弗利 - 伊頓半導體設備運營部今天宣布推出一款中等電流離子注入機，可提供更高的吞吐量據該公司介紹，該產品采用伊頓公司的8250平臺，8250HT設計用于0.18微米及以下工藝，具有處理能力，使其成為非常適合用于通道和排水工程植入的中電流注入器。該公司表示，第一個系統計劃于3月發貨。

“該工具具有無與倫比的靈活性和生產率，使其成為極具成本效益的選擇，”伊頓半導體植入系統營銷總監David Duff說。師。 “8250HT提供無與倫比的光束純度，并允許IC制造商靈活地在同一系統上運行多種物種 - 因此不需要專用系統。這一點至關重要，因為銦應用的使用變得越來越重要。”

全自動串行處理系統旨在最大限度地提高生產率并最大限度地減少各種形式的污染。 8250HT采用了伊頓半導體的專利延長壽命源（ELS），可提供高源壽命和電子束電流。伊頓表示，8250HT能夠提供4到3,500微安的足夠電子束電流，以滿足所有高傾斜，中等電流應用的機械極限。

該系統還通過處理能量范圍為3至750千電子伏特的各種物種，最大限度地提高了工具的利用率。因此，伊頓公司稱，不需要專門的銦工藝注入機。 8250HT實現了每小時210片晶圓的機械限制吞吐量，與批量無關，并且允許制造商達到0.5％的均勻度規格。

使用獨特的角度能量過濾器實現高光束能量和化學純度（AEF），它將光束偏轉15度，并在污染物到達晶圓之前消除污染。根據Duff的說法，AEF使8250HT能夠實現在減速或加速模式下工作時通常低于計量檢測水平的光束能量和化學污染水平。

“通過充分利用整個種植體能量范圍，這種能力為制造工藝增加了大量的靈活性，而不用擔心能源污染，”他說。