涂層技術(shù)EV Group提供由摩托羅拉開發(fā)的面罩涂層技術(shù)
EV集團(tuán)提供由摩托羅拉開發(fā)的掩模涂層技術(shù)
PHOENIX - EV集團(tuán)公司在此宣布，它將提供由摩托羅拉實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的用于提高接觸式印刷設(shè)備產(chǎn)量的掩模涂層技術(shù)。該公司表示，該涂層稱為超級清潔面膜，可防止光刻膠和任何污染物在接觸印刷過程中粘附在面罩上，從而延長了面罩的曝光壽命。 EVG正在為每個掩模對準(zhǔn)器提供技術(shù)許可。
PHOENIX - EV集團(tuán)公司在此宣布，它將提供由摩托羅拉實(shí)驗(yàn)室開發(fā)的用于提高接觸式印刷設(shè)備產(chǎn)量的掩模涂層技術(shù)。該公司表示，該涂層稱為超級清潔面膜，可防止光刻膠和任何污染物在接觸印刷過程中粘附在面罩上，從而延長了面罩的曝光壽命。 EVG正在為每個掩模對準(zhǔn)器提供技術(shù)許可。
據(jù)德國公司EVG稱，SCM掩模涂層大大延長了掩模清潔周期，但在使用過程中沒有明顯降低特征尺寸分辨率。被稱為電子視覺。這對于接觸印刷應(yīng)用是至關(guān)重要的，例如微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS），功率和微波晶體管，齊納二極管和肖特基二極管，太陽能電池和其他大型缺陷敏感功率和光子器件。
與EVG的楔形補(bǔ)償系統(tǒng)結(jié)合使用時，SCM涂層在掩模清潔周期之間產(chǎn)生了最大數(shù)量的質(zhì)量曝光，該公司聲稱。它說，這可以改善掩模的使用壽命并大大降低掩模更換要求。
聯(lián)系打印機(jī)是在20世紀(jì)60年代早期為半導(dǎo)體加工開發(fā)的。隨著硅晶片變得越來越大 - 高達(dá)8英寸，現(xiàn)在為12英寸 - 使用大型石英掩模的接觸式打印機(jī)被步進(jìn)技術(shù)取代。 EVG表示，最新的MEMS，化合物半導(dǎo)體，激光和其他使用3-，4-，6-和最近8英寸晶圓的電信產(chǎn)品已經(jīng)引發(fā)了接觸式印刷的復(fù)蘇。
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