国产精品久久久aaaa,日日干夜夜操天天插,亚洲乱熟女香蕉一区二区三区少妇,99精品国产高清一区二区三区,国产成人精品一区二区色戒,久久久国产精品成人免费,亚洲精品毛片久久久久,99久久婷婷国产综合精品电影,国产一区二区三区任你鲁

0
  • 聊天消息
  • 系統(tǒng)消息
  • 評論與回復(fù)
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學(xué)習(xí)在線課程
  • 觀看技術(shù)視頻
  • 寫文章/發(fā)帖/加入社區(qū)
會員中心
創(chuàng)作中心

完善資料讓更多小伙伴認(rèn)識你,還能領(lǐng)取20積分哦,立即完善>

3天內(nèi)不再提示

關(guān)于鍺硅工藝的建模,設(shè)計(jì)和應(yīng)用分析和介紹

弘模半導(dǎo)體 ? 來源:djl ? 2019-09-06 17:26 ? 次閱讀
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

今年MOS-AK 器件模型國際會議將于2019年6月21-22日在成都電子科大舉辦,在會議的前一天6月20日,我們特別安排了一天的培訓(xùn),主要內(nèi)容是基于SiGe HBT工藝的器件建模,電路設(shè)計(jì)以及終端應(yīng)用,主講者是來自Infineon 和 Silicon Radar 參與鍺硅歐盟項(xiàng)目的專家,通過他們的講述,讓大家更多理解模型的核心價(jià)值以及落地的大規(guī)模產(chǎn)品應(yīng)用,屬于比較完美的turnkey solution。

其中上午,來自Infineon的Dr. Andreas Pawlak給我們帶來模型部分培訓(xùn),他是下面出版的“Silicon-Germanium Heterojunction Bipolar Transistors for mm-Wave Systems Technology, Modeling and Circuit Applications”模型章節(jié)的主要作者。他的演講內(nèi)容主要是回顧歐盟項(xiàng)目Dotfive, Dotseven, RF2THz 等在開發(fā)新工藝,建立新模型當(dāng)中碰到的各種問題,比如substrate coupling, scaling, model parameter extraction等等,當(dāng)然在器件fmax=700GHz ,demo電路240GHz的情況下,許多測試方案,建模方案也是在驗(yàn)證,測試,錯誤,更新,并且和工藝,設(shè)計(jì)人員的密切配合,不斷輪回中才獲得比較理想結(jié)果的,通過案例分享,讓國內(nèi)將來如果引進(jìn)SiGe HBT工藝也可以少走彎路。

下午,主要由來自Silicon Radar的設(shè)計(jì)主管Dr. Wojciech Debski 帶來基于SiGe HBT 工藝的電路和應(yīng)用,他本人也參與很多歐盟項(xiàng)目,這些已經(jīng)落地產(chǎn)品和上面的模型成功開發(fā)密不可分。 培訓(xùn)分二部分,第一部分將介紹24GHz、60GHz和122GHz ISM波段的雷達(dá)收發(fā)器設(shè)計(jì)。此外,還將現(xiàn)場演示兩個寬帶收發(fā)器:一個工作在120GHz,帶寬為20GHz,另一個工作在300GHz,帶寬為40GHz。第二部分將重點(diǎn)介紹需要角分辨率的應(yīng)用芯片,介紹集成的24GHz收發(fā)器(具有兩個發(fā)射通道和四個接收通道),60GHz可擴(kuò)展收發(fā)器(具有四個接收通道和四個發(fā)射通道), 79GHz可擴(kuò)展收發(fā)器(具有四個接收通道和四個發(fā)射通道),120GHz收發(fā)器(帶兩個接收和一個發(fā)送通道)。

聲明:本文內(nèi)容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網(wǎng)站授權(quán)轉(zhuǎn)載。文章觀點(diǎn)僅代表作者本人,不代表電子發(fā)燒友網(wǎng)立場。文章及其配圖僅供工程師學(xué)習(xí)之用,如有內(nèi)容侵權(quán)或者其他違規(guī)問題,請聯(lián)系本站處理。 舉報(bào)投訴
  • 收發(fā)器
    +關(guān)注

    關(guān)注

    10

    文章

    3819

    瀏覽量

    111201
  • 雷達(dá)
    +關(guān)注

    關(guān)注

    52

    文章

    3328

    瀏覽量

    123902
  • 鍺硅工藝
    +關(guān)注

    關(guān)注

    1

    文章

    2

    瀏覽量

    3822
收藏 人收藏
加入交流群
微信小助手二維碼

掃碼添加小助手

加入工程師交流群

    評論

    相關(guān)推薦
    熱點(diǎn)推薦

    關(guān)于MT6901的直線DEMO介紹

    關(guān)于MT6901的直線DEMO介紹
    的頭像 發(fā)表于 01-30 10:54 ?410次閱讀
    <b class='flag-5'>關(guān)于</b>MT6901的直線DEMO<b class='flag-5'>介紹</b>

    PCB打樣特殊工藝介紹「沉金工藝

    PCB 打樣特殊工藝介紹:沉金工藝(ENIG) 沉金工藝(Electroless Nickel Immersion Gold,ENIG)是PCB表面處理中最常用的
    的頭像 發(fā)表于 01-14 11:04 ?531次閱讀
    PCB打樣特殊<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>介紹</b>「沉金<b class='flag-5'>工藝</b>」

    【產(chǎn)品介紹】Altair HyperMesh有限元建模分析軟件

    有限元建模預(yù)處理和后處理功能。在AI增強(qiáng)的3D建模和可視化工具、下一代設(shè)計(jì)和優(yōu)化工作流以及開放、可編程、用戶友好的界面的支持下,HyperMesh使用戶能夠輕松管理
    的頭像 發(fā)表于 01-06 17:56 ?1138次閱讀
    【產(chǎn)品<b class='flag-5'>介紹</b>】Altair HyperMesh有限元<b class='flag-5'>建模</b>和<b class='flag-5'>分析</b>軟件

    關(guān)于NFC鎳鋅鐵氧體片的介紹

    關(guān)于NFC鎳鋅鐵氧體片的介紹
    的頭像 發(fā)表于 12-04 10:52 ?410次閱讀
    <b class='flag-5'>關(guān)于</b>NFC鎳鋅鐵氧體片的<b class='flag-5'>介紹</b>

    濕法腐蝕工藝處理硅片的原理介紹

    濕法腐蝕工藝處理硅片的核心原理是基于化學(xué)溶液與材料之間的可控反應(yīng),通過選擇性溶解實(shí)現(xiàn)微納結(jié)構(gòu)的精密加工。以下是該過程的技術(shù)要點(diǎn)解析:化學(xué)反應(yīng)機(jī)制離子交換驅(qū)動溶解:以氫氟酸(HF)為例,其電離產(chǎn)生
    的頭像 發(fā)表于 09-02 11:45 ?1059次閱讀
    濕法腐蝕<b class='flag-5'>工藝</b>處理硅片的原理<b class='flag-5'>介紹</b>

    Techwiz LCD 2D應(yīng)用:二維LC透鏡建模分析

    Techwiz LCD 2D新的Lens掩膜結(jié)構(gòu) 1. 摘要 Techwiz LCD 2D新增Lens掩膜結(jié)構(gòu),可以方便快捷的對LC 透鏡進(jìn)行建模分析。LC透鏡由于體積小、焦距可變等優(yōu)點(diǎn),被認(rèn)為是
    發(fā)表于 05-30 08:47

    BGT24LTR11N16用于信號生成和接收的雷達(dá)MMIC技術(shù)手冊

    BGT24LTR11N16是用于信號生成和接收的雷達(dá)MMIC,工作范圍在24.00至24.25 GHz的24.0GHz ISM頻段。它基于 24GHz 基本壓控振蕩器(VCO)。該器件在設(shè)計(jì)時
    的頭像 發(fā)表于 04-21 16:49 ?1279次閱讀
    BGT24LTR11N16用于信號生成和接收的<b class='flag-5'>硅</b><b class='flag-5'>鍺</b>雷達(dá)MMIC技術(shù)手冊

    概倫電子先進(jìn)器件建模平臺BSIMProPlus介紹

    BSIMProPlus是一款技術(shù)先進(jìn)的半導(dǎo)體器件SPICE模型建模平臺,在其多年的產(chǎn)品歷史中一直保持在半導(dǎo)體行業(yè)SPICE建模市場和技術(shù)的領(lǐng)先地位,被眾多集成電路制造和設(shè)計(jì)公司采用作為標(biāo)準(zhǔn)SPICE建模工具。
    的頭像 發(fā)表于 04-16 09:03 ?1758次閱讀
    概倫電子先進(jìn)器件<b class='flag-5'>建模</b>平臺BSIMProPlus<b class='flag-5'>介紹</b>

    芯片制造中的應(yīng)變技術(shù)介紹

    本文介紹了在芯片制造中的應(yīng)變技術(shù)的原理、材料選擇和核心方法。
    的頭像 發(fā)表于 04-15 15:21 ?3170次閱讀
    芯片制造中的應(yīng)變<b class='flag-5'>硅</b>技術(shù)<b class='flag-5'>介紹</b>

    最全最詳盡的半導(dǎo)體制造技術(shù)資料,涵蓋晶圓工藝到后端封測

    。 第1章 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)介紹 第2章 半導(dǎo)體材料特性 第3章 器件技術(shù) 第4章 和硅片制備 第5章 半導(dǎo)體制造中的化學(xué)品 第6章 硅片制造中的沾污控制 第7章 測量學(xué)和缺陷檢查 第8章 工藝腔內(nèi)的氣體控制
    發(fā)表于 04-15 13:52

    多晶鑄造工藝中碳和氮雜質(zhì)的來源

    本文介紹了在多晶鑄造工藝中碳和氮雜質(zhì)的來源、分布、存在形式以及降低雜質(zhì)的方法。
    的頭像 發(fā)表于 04-15 10:27 ?1663次閱讀
    多晶<b class='flag-5'>硅</b>鑄造<b class='flag-5'>工藝</b>中碳和氮雜質(zhì)的來源

    半導(dǎo)體材料發(fā)展史:從基到超寬禁帶半導(dǎo)體的跨越

    半導(dǎo)體:的奠基時代 時間跨度: 20世紀(jì)50年代至70年代 核心材料: (Si)、(Ge) (Si)
    的頭像 發(fā)表于 04-10 15:58 ?3192次閱讀

    LPCVD方法在多晶制備中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

    本文圍繞單晶、多晶與非晶三種形態(tài)的結(jié)構(gòu)特征、沉積技術(shù)及其工藝參數(shù)展開介紹,重點(diǎn)解析LPCVD方法在多晶
    的頭像 發(fā)表于 04-09 16:19 ?2378次閱讀
    LPCVD方法在多晶<b class='flag-5'>硅</b>制備中的優(yōu)勢與挑戰(zhàn)

    N型單晶制備過程中拉晶工藝對氧含量的影響

    本文介紹了N型單晶制備過程中拉晶工藝對氧含量的影響。
    的頭像 發(fā)表于 03-18 16:46 ?1573次閱讀
    N型單晶<b class='flag-5'>硅</b>制備過程中拉晶<b class='flag-5'>工藝</b>對氧含量的影響

    集成電路制造中的電鍍工藝介紹

    本文介紹了集成電路制造工藝中的電鍍工藝的概念、應(yīng)用和工藝流程。
    的頭像 發(fā)表于 03-13 14:48 ?2744次閱讀
    集成電路制造中的電鍍<b class='flag-5'>工藝</b><b class='flag-5'>介紹</b>