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ROHM推出實現業(yè)界超快trr的100V耐壓SBD

江師大電信小希 ? 來源:江師大電信小希 ? 作者:江師大電信小希 ? 2024-03-15 15:22 ? 次閱讀
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二極管的種類有很多,其中高效率SBD被廣泛用于各種應用。尤其是溝槽MOS結構的SBD,其VF低于平面結構的SBD,因此可以在整流等應用中提高效率。而普通溝槽MOS結構的產品,其trr比平面結構的要差,因此在用于開關應用時存在功率損耗增加的課題。針對這種課題,ROHM推出采用自有的溝槽MOS結構、同時改善了存在權衡關系的VF和IR、并實現了業(yè)界超快trr的YQ系列產品。

“YQ系列”是繼以往支持各種電路應用的4個SBD系列之后推出的新系列產品,也是ROHM首款采用溝槽MOS結構的二極管。該系列利用ROHM自有的結構設計,實現了業(yè)界超快的trr(15ns),與同樣采用溝槽MOS結構的普通產品相比,trr單項的損耗降低約37%,總開關損耗降低約26%,因此,有助于降低應用產品的功耗。另外,通過(找元器件現貨上唯樣商城)采用溝槽MOS結構,與以往采用平面結構的SBD相比,正向施加時的損耗VF*2和反向施加時的損耗IR*3均得到改善。這不僅可以降低在整流應用等正向使用時的功率損耗,還可以降低對于SBD而言最令人擔心的熱失控風險*4。這些優(yōu)勢使得該系列產品非常適用于容易發(fā)熱的車載LED前照燈的驅動電路、xEV用的DC-DC轉換器等需要進行高速開關的應用。

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新產品從2023年12月起全部投入量產(樣品價格:300日元~/個,不含稅)。今后,ROHM將持續(xù)努力提高從低耐壓到高耐壓半導體元器件的品質,并繼續(xù)加強別具特色的產品陣容,為應用產品進一步實現小型化和更低功耗貢獻力量。

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<關于SBD的溝槽MOS結構>

溝槽MOS結構是在外延層中形成溝槽(溝槽MOS)并用多晶硅填充的結構,這種結構可以緩和電場集中,從而可以降低外延層的電阻率,在正向施加時VF更低。另外,當反向施加時,可以緩和電場集中現象,從而實現更低的IR。前述的“YQ系列”通過采用這種溝槽MOS結構,與以往產品相比,VF改善了約7%,IR改善了約82%。另一方面,在普通溝槽MOS結構中,寄生電容(元器件中的電阻分量)較大,因此trr要比平面結構的差。“YQ系列”不僅改善了VF和IR,而且還利用ROHM自有的結構設計,實現了約15ns的業(yè)界超快trr。由于可將開關時的損耗降低約26%,因此非常有助于降低應用產品的功耗。

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<應用示例>

?汽車LED前照燈 ?xEV用DC-DC轉換器 ?工業(yè)設備電源 ?照明

<產品陣容表>

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審核編輯 黃宇

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