二極管的種類有很多，其中高效率SBD被廣泛用于各種應用。尤其是溝槽MOS結構的SBD，其VF低于平面結構的SBD，因此可以在整流等應用中提高效率。而普通溝槽MOS結構的產品，其trr比平面結構的要差，因此在用于開關應用時存在功率損耗增加的課題。針對這種課題，ROHM推出采用自有的溝槽MOS結構、同時改善了存在權衡關系的VF和IR、并實現了業界超快trr的YQ系列產品。

“YQ系列”是繼以往支持各種電路應用的4個SBD系列之后推出的新系列產品，也是ROHM首款采用溝槽MOS結構的二極管。該系列利用ROHM自有的結構設計，實現了業界超快的trr（15ns），與同樣采用溝槽MOS結構的普通產品相比，trr單項的損耗降低約37%，總開關損耗降低約26%，因此，有助于降低應用產品的功耗。另外，通過（找元器件現貨上唯樣商城）采用溝槽MOS結構，與以往采用平面結構的SBD相比，正向施加時的損耗VF*2和反向施加時的損耗IR*3均得到改善。這不僅可以降低在整流應用等正向使用時的功率損耗，還可以降低對于SBD而言最令人擔心的熱失控風險*4。這些優勢使得該系列產品非常適用于容易發熱的車載LED前照燈的驅動電路、xEV用的DC-DC轉換器等需要進行高速開關的應用。

新產品從2023年12月起全部投入量產（樣品價格：300日元～/個，不含稅）。今后，ROHM將持續努力提高從低耐壓到高耐壓半導體元器件的品質，并繼續加強別具特色的產品陣容，為應用產品進一步實現小型化和更低功耗貢獻力量。

＜關于SBD的溝槽MOS結構＞

溝槽MOS結構是在外延層中形成溝槽（溝槽MOS）并用多晶硅填充的結構，這種結構可以緩和電場集中，從而可以降低外延層的電阻率，在正向施加時VF更低。另外，當反向施加時，可以緩和電場集中現象，從而實現更低的IR。前述的“YQ系列”通過采用這種溝槽MOS結構，與以往產品相比，VF改善了約7%，IR改善了約82%。另一方面，在普通溝槽MOS結構中，寄生電容（元器件中的電阻分量）較大，因此trr要比平面結構的差。“YQ系列”不僅改善了VF和IR，而且還利用ROHM自有的結構設計，實現了約15ns的業界超快trr。由于可將開關時的損耗降低約26%，因此非常有助于降低應用產品的功耗。

＜應用示例＞

?汽車LED前照燈 ?xEV用DC-DC轉換器 ?工業設備電源 ?照明

＜產品陣容表＞

審核編輯 黃宇