現階段，非線性光學的研究仍然主要聚焦于非線性光學材料，這其中又主要包括對已知非線性光學材料光學性質的進一步探究和對新型非線性光學材料的尋找。

非線性光學材料種類繁多，根據材料體系的不同，可以簡單分為有機、無機、高分子以及有機-無機雜化材料等。根據非線性光學現象的不同，又可以分為二階非線性光學材料和三階非線性光學材料等。

數十年來，科研工作者們一直在尋找兼具大的非線性光學響應和亞皮秒的響應時間的優良非線性光學材料。隨著納米科學的進步，以及現代分子技術和晶體生長技術的發展，新的性能優異的非線性光學材料不斷被開發出來，這又進一步推動了光子學應用領域的進步與發展。

大的非線性光學響應，意味著可以在更短的作用距離上，讓光學效應達到我們想要實現的預期目標，這可以幫助光子器件的小型化。更短的響應時間，意味著響應更敏感、更及時，同樣是現代光子器件和光電器件一直以來對非線性光學材料的要求。

為了符合現代金屬－氧化物－半導體（CMOS）制備工藝的需求，非線性光學材料還應具備與CMOS 工藝良好的兼容性。而不易腐蝕，高硬度及良好的物理和化學穩定性，這些特點同樣是光子學應用領域對非線性光學材料的期待。

除了尋找具有優異性能的新型非線性光學材料，對已知非線性光學材料光學性質的進一步探究同樣是非線性光學研究的一個非常重要的組成部分，后者可以幫助我們加深對非線性光學現象的進一步理解，拓寬非線性光學材料的使用空間，對應用領域進行的非線性光學性能調制提供直接的幫助，對科研和生產有十分重要的指導意義。

審核編輯：黃飛