「前沿技術」Onto Innovation發布新型聲學薄膜計量系統
來源：《半導體芯科技》雜志10/11月刊
Onto Innovation公司推出創新薄膜聲學計量系統。新的Echo?系統進一步擴大了不透明薄膜在線表征和計量能力，利用皮秒超聲原理，為前沿DRAM和高堆棧NAND存儲器提供關鍵厚度計量和材料表征。對于這些先進的架構，Echo系統提供了關鍵的金屬薄膜計量，使更高的內存帶寬和位密度成為可能。Echo系統也可以在專業領域為各種設備提供金屬厚度和表征，包括5G通信的射頻濾波器，以及電動汽車（EV）和高速便攜式充電器的功率器件。
Echo不透明薄膜聲學計量系統。能夠測量從50?到35μm厚度的單層或多層薄膜，處理100-300mm尺寸的晶圓。隨著垂直NAND設備中層疊的不斷增加，關鍵的沉積步驟，如硬掩膜，對通道孔形成過程至關重要。這些薄膜的準確厚度和機械性能對于確保薄膜在整個蝕刻過程中保持完整性極為關鍵。通過利用Onto以工具為中心的軟件，Echo系統在HVM客戶現場可以提供完整的解決方案，其中晶圓上的計量被用于閉環反饋，對關鍵的薄膜沉積步驟進行過程控制。
Echo系統的信噪比（SNR）是現有產品的三倍，它支持廣泛的薄膜厚度，從厚度非常薄的50?薄膜到35μm厚的不透明薄膜和金屬層。此外，Echo系統具有材料表征能力，包括植入監測在線時域熱反射和熱導率表征。
審核編輯黃昊宇
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