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3nm+關注3人關注

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在半導體制造中,3納米工藝是繼5納米MOSFET 技術節點之后的下一個芯片縮小。截至2019年,三星和臺積電已宣布計劃將3 nm 半導體節點投入商業生產。它基于GAAFET(全能柵極場效應晶體管)技術,這是一種多柵極MOSFET技術。

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