一、產品概述
QDR清洗設備（Quadra Clean Drying System）是一款專為高精度清洗與干燥需求設計的先進設備，廣泛應用于半導體、光伏、光學、電子器件制造等領域。該設備集成了化學腐蝕清洗、超聲波/兆聲波清洗、多級漂洗及真空干燥等技術，能夠高效去除石英、硅片、金屬部件等表面的顆粒、有機物、氧化物及金屬污染，同時避免二次損傷，確保器件表面潔凈度與工藝兼容性。
二、核心特點
四維清洗技術（Quadra Clean）
- 化學腐蝕：精準調配酸液（如HF、HCL、H?O?）或堿性溶液，針對特定污染物（如氧化層、金屬殘留）實現可控腐蝕。
- 超聲波+兆聲波協同：
- 超聲波（20-40kHz）：剝離頑固顆粒與薄膜。
- 兆聲波（>1MHz）：清除亞微米級顆粒，適用于納米結構清洗。
- 多級漂洗：3-5級去離子水（DI Water）噴淋與溢流沖洗，徹底去除化學殘留。
- 真空干燥：低溫（<60℃）真空環境脫水，避免高溫損傷，防止水痕與氧化。
智能化控制系統
- PLC+觸摸屏：預設清洗程序，支持參數可調（時間、溫度、功率、流量）。
- 實時監控：在線檢測清洗液濃度、pH值、顆粒數，自動補充或更換化學液。
- 數據追溯：記錄每次清洗的工藝參數與結果，符合ISO標準與行業追溯要求。
高精度兼容設計
- 多尺寸適配：可處理2寸至12寸晶圓、石英舟、金屬載具等，適應不同工藝需求。
- 低損傷清洗：非接觸式流體沖刷與聲波振動，避免機械應力損傷脆弱結構（如薄膜、納米圖形）。
- 材料兼容性：腔體采用PFA、PTFE等耐腐蝕材料，避免交叉污染。
環保與安全
- 閉環化學液系統：廢液自動回收與分離，減少危廢處理成本。
- 安全防護：泄漏檢測、緊急排液、防爆設計，符合SEMI S8安全標準。
三、應用場景
- 半導體制造：清洗擴散爐石英舟、光刻機部件、CVD石墨載具等。
- 光伏行業：太陽能電池片承載石英舟的顆粒與金屬污染去除。
- 光學加工：光學鏡片模具、石英坩堝的納米級清潔。
- 科研實驗：實驗室級高精度器件清洗（如MEMS傳感器、量子芯片載體）。
QDR清洗設備以“四維清洗+真空干燥”為核心，結合智能化與安全性設計，為高端制造業提供高精度、高效率的清洗解決方案，助力提升產品良率與工藝穩定性。
