電子發燒友網訊：上個星期，第四十二屆美國西部半導體展在舊金山莫斯康展覽中心舉行，參加展會的人數超過29000個，這是一個為生產設備和材料供應商提供的貿易戰，每年舉辦一屆。與此同時，展示太陽能設備的國際太陽能科技展覽會也和這個半導體展一樣在這個地方舉行了很多屆。

　　據每年舉辦這個展覽會的晶圓設備供應商貿易團體SEMI統計數據顯示，今年的與會人數相對于去年的30985有明顯的下降。他們同時強調，其中的14%的參展者是來自海外。

　　這次展會提供了1307個展位，相對于2011年的1273個有了小幅度的提高。據統計有來自21個國家690個公司的人員參加了這次展覽會，其中還有51個從未從參加過展覽的與會者。

　　今年的大會同樣對從包裝和收益管理到光刻等所有領域進行了一個精選的技術簡報，這一點也在英特爾工程院士Shekhar Borkar、賽靈思首席技術官Ivo Bolsens 和應用材料公司的能源和環境解決方案業務部門的總經理Mark Pinto的專題演講中屢屢提到。

　　盡管Intel和ASML因為公布Intel投資光刻工具供應商來支持450nm光刻和極端紫外線系統的研發而引起了軒然大波，但還有其他重要的發展動態值得我們關注的。

　　英特爾工程院士Shekhar Borkar，是芯片制造巨人extreme—scale技術的負責人，在7.10的開幕大會上進行了專題演講。Borkar聲稱exascale運算將會在十年內實現，并宣稱除非基本的電源消耗障礙被克服，否則射不能達到期望的標準。

從觀眾席角度拍的Borkar演講的全景圖